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メンテナンスと清掃が容易な500-1000℃の運転温度を持つ全自動流動層焙焼システム

全自動流動層焙煎システム

500-1000℃ 流動層焙焼炉

メンテナンスと清掃が容易な産業用焙焼装置

ブランド名:

Fluidized Bed Roasting

Model Number:

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製品詳細

メンテナンス:

維持し、きれいになること容易

洗浄方法:

掃除のための簡単な分解

応用:

コーヒー豆、ナッツ、種子、穀物

制御システム:

支払いを受け取ってから5〜10営業日

動作温度:

500〜1000°C

直径:

900~6400mm

自動化レベル:

完全に自動化されています

熱移転方法:

流動化

ハイライト:

全自動流動層焙煎システム

500-1000℃ 流動層焙焼炉

メンテナンスと清掃が容易な産業用焙焼装置

支払及び船積みの言葉

最小注文数量

価格

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支払条件

T/T

供給の能力

1000

PLCタッチスクリーン制御流動層焙煎システム、優れた均一性と500-1000℃の温度範囲

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900-6400mm径流動層焙煎システム（焙煎時間5～30分、低排出・低消費エネルギー）

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簡単な分解清掃と低排出ガスを実現する全自動流動層焙煎システム

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86-0391-6530588

zljx.jack@gmail.com

86-0391

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製品の説明

完全に自動化された移動ベッドの燃焼装置

効率的な廃棄物処理と材料処理の適用のために500〜1000°Cで動作する.

製品概要

流体式ベッド焼却システム (Fluidized Bed Roasting System) は,コーヒー豆,ナッツ,種子,穀物の様々な焼却ニーズに対応するために設計された先進的で効率的なソリューションです.イノベティブな流体化ベッド技術と懸浮コンテナピロリシスを組み合わせた利用このシステムは優れた熱伝達と均質な焼却を保証し,一貫した製品品質と強化された味のプロファイルを提供します.

300~1000°Cの温度範囲内で動作し,典型的な焼却プロセスは500~1000°C間で行われます.このシステムは,様々な材料の特性に対応するために,例外的な柔軟性があります.流体化ベッドの設計は,熱気またはガスの均一な分布を製品粒子の周りに確保し,局所的な過熱を防止し,均等な熱浸透を促進します.

主要な特徴

製品名: 流体式ベッドローストシステム
作業温度: 500~1000°C 多様な焼焼用途
制御システム: 精密な操作のための完全自動PLCタッチ画面
焼却の均一性: 優れた品質で,一貫した製品品質を保証
直径範囲: 900-6400mm 様々な容量要件に対応するために
運用コスト:低エネルギー消費,工業プロセスに適したコスト
適用: ベッドオーブンの焼焼や粒子乾燥燃焼に適しています
保守: 簡単に解体してすぐに清掃できる設計

テクニカル仕様

直径範囲	900~6400mm
動作温度	500〜1000°C
適用可能な材料	コーヒー豆,ナッツ,種子,穀物
メンテナンス	維持し清掃する簡単
自動化レベル	完全に自動
焼く時間	5〜30分
温度範囲	300〜1000°C
熱移転方法	流動化
焼くの均一性	すごい
清掃方法	簡単に分解できる設計

応用分野

流体式ベッド焼却システムでは絶妙な焼却の均一性と効率的な自動制御が可能です手作り小批量から大規模産業への多様な生産ニーズを満たす.

コーヒーの焼却

最適な味の発達とバッチ対バッチの一貫性のために均等な熱分布を達成します.

ナッツ加工

完璧な質感,色,味の特徴を正確に制御します

種子と穀物加工

製品品質を向上させ,保存期間を延長するために,細かな調節で焼くことができます.

パーソナライズサービス

このシステムは,特定のプロセス要件を満たすために包括的なカスタマイズサービスを提供しています.顧客は,独自のプロセスニーズに合わせてシステム構成を調整できます.先進的な自動化技術と信頼性の高い性能が.

サポートとサービス

最適な性能のために,設置が製造者のガイドラインに従っており,動作中にすべての安全プロトコルが厳格に遵守されていることを確認してください.

最高性能には,空気流システム検査,焼焼室の磨き監視,材料の蓄積と汚染を防ぐために流体洗浄を含む定期的な保守が不可欠です.

技術サポートチームは複雑な問題やソフトウェアの更新や部品の交換を手伝ってダウンタイムを最小限に抑え生産性を維持しますシステム効率を最大化し,安全性を確保するために効率的な操作です

札：

メンテナンスと清掃が容易な500-1000℃の運転温度を持つ全自動流動層焙焼システム

全自動流動層焙煎システム

500-1000℃ 流動層焙焼炉

メンテナンスと清掃が容易な産業用焙焼装置

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PLCタッチスクリーン制御流動層焙煎システム、優れた均一性と500-1000℃の温度範囲

900-6400mm径流動層焙煎システム（焙煎時間5～30分、低排出・低消費エネルギー）

簡単な分解清掃と低排出ガスを実現する全自動流動層焙煎システム

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